ナノ秒基本波/SHGファイバーレーザ

ナノ秒パルスファイバーレーザ

 

ナノ秒パルスファイバレーザ

ファイバーレーザベースの為、非常に高品質でメンテナンス性に優れたレーザです。
高パルスエネルギー、高ピークパワー、高繰り返し周波数で且つ品質の良いビームをご提供します。
マーキング、切断等の材料加工からLIDARや波長変換用の種光としてもご利用いただけます。

 

製品
波長 1030nm
平均出力 100W
繰り返し周波数 50-500kHz
パルス幅 5ns
偏光 ランダム
M2 <1.3
出力安定性 <±5%
使用温度 10~30℃
保存温度 5~70℃
冷却 水冷
電源 AC100~240V(50/60Hz)
ウォームアップタイム 10分
寸法 345(幅)×490(奥行き)×127(高さ)mm
波長 515nm
平均出力 10W 20W 30W 50W
繰り返し周波数 100kHz 200kHz 300kHz 500kHz
パルス幅 5ns
パルスエネルギー 100uJ
M2 <1.2
出力安定性 <±5%
線幅 <0.01nm (単一周波数も対応可能です)
使用温度 10~30℃
保存温度 5~70℃
冷却 水冷
電源 AC100~240V(50/60Hz)
ウォームアップタイム 10分
寸法 345(幅)×490(奥行き)×127(高さ)mm

 

 

 

アプリケーション
ガラスの穴あけ


高いパルスエネルギー、高いビーム品質、高い繰り返し周波数のファイバーレーザにより、ガラスに対してテーパーフリーの高速穴あけ加工が可能となります。

 

 

 

 

 

ガラスのマーキング


高いピークパワーのレーザビームをガラスに照射することによりマイクロクラックを形成し、マーキングを行うことができます。この効果はガラスの内側にも同様に起こるため、ガラスの表面はそのままで内部にマーキングを行うと行ったことも可能となります。

 

薄膜パターニング


薄膜は太陽光発電装置、ディスプレイなど様々な用途に使用されています。高繰り返しの単パルスレーザはこ、基板を損傷することなくコーティングを選択的にアブレーションすることにより、これらのコーティングを高精度で高速にパターン化するのに最適です。