エキシマレーザ
エキシマレーザは微細加工を始め薄膜生成、ファイバーブラッ
ググレーティング作製、近視治療（レーシック）をはじめとする
様々な医療用途、フォトルミネッセンスなど様々な用途で利用さ
れています。
当社ではArF（193nm）、KrF（248nm）、XeCl（308nm）、XeF
（351nm）に対応した高性能なエキシマレーザをご提供します。
PLD20型エキシマレーザ
ガス種類 |
ArF |
KrF |
XeCl |
XeF |
波長 |
193nm |
248nm |
308nm |
351nm |
最大パルスエネルギー |
400mJ |
500mJ |
400mJ |
250mJ |
平均出力 |
6W |
9W |
6W |
4W |
最大繰返周波数 |
20Hz |
|||
安定度（σ） |
3% |
|||
パルス幅（FWHM） |
約25ns |
|||
ビームサイズ（V×H） |
22×6mm |
|||
拡がり角（V×H） |
3×1 mrad |
|||
重量 |
230kg |
|||
冷却 |
水冷 |
|||
電源 |
220V/50Hz/14A/単層 |
|||
寸法（L×W×H） |
1000×450×660mm |
|||
PLD150型エキシマレーザ
ガス種類 |
ArF |
KrF |
XeCl |
XeF |
波長 |
193nm |
248nm |
308nm |
351nm |
最大パルスエネルギー |
150mJ |
200mJ |
150mJ |
100mJ |
平均出力 |
20W |
25W |
20W |
15W |
最大繰返周波数 |
150Hz |
|||
安定度（σ） |
3% |
|||
パルス幅（FWHM） |
約20ns |
|||
ビームサイズ（V×H） |
14×5mm |
|||
拡がり角（V×H） |
3×1 mrad |
|||
重量 |
200kg |
|||
冷却 |
水冷 |
|||
電源 |
220V/50Hz/14A/単層 |
|||
寸法（L×W×H） |
1300×400×900mm |
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FBG200/200M型エキシマレーザ
ガス種類 |
ArF |
KrF |
XeCl |
波長 |
193nm |
248nm |
308nm |
最大パルスエネルギー |
9mJ |
14mJ |
9mJ |
平均出力 |
1.3W |
2W |
1.3W |
最大繰返周波数 |
200Hz |
||
安定度（σ） |
2% |
||
パルス幅（FWHM） |
約15ns |
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ビームサイズ（V×H） |
6×3mm |
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拡がり角（V×H） |
3×1 .5mrad |
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重量 |
50kg |
||
冷却 |
空冷 |
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電源 |
220V/50Hz/3A/単層 |
||
寸法（L×W×H） |
600×300×400mm |
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FBG200E型エキシマレーザ
ガス種類 |
ArF |
KrF |
XeCl |
波長 |
193nm |
248nm |
308nm |
最大パルスエネルギー |
10mJ |
18mJ |
8mJ |
平均出力 |
1.5W |
3W |
1.5W |
最大繰返周波数 |
200Hz |
||
安定度（σ） |
2% |
||
パルス幅（FWHM） |
約15ns |
||
ビームサイズ（V×H） |
7×4mm |
||
拡がり角（V×H） |
3×1 .5mrad |
||
重量 |
50kg |
||
冷却 |
空冷 |
||
電源 |
220V/50Hz/3A/単層 |
||
寸法（L×W×H） |
600×350×600mm |
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